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第406章 成立魔都半导体设备有限公司(3 / 3)

“十年后,应该会过渡到arf的技术路线上。”徐教授说道:“咱们华清大学激光所,已经在搞这种全新的光源了,十年内,必然会搞出来。不过……也有一些公司着手更加超前,比如ibm公司,已经在搞x射线的研究了。”

光刻机的技术路线,是在arf光源上遭遇巨大阻力的,这种光源波长193纳米,理论可以刻蚀到55纳米的工艺,但是再向下,就会碰到一座大山。

接下来用什么光源,行业内都是懵逼的,尼康这种老牌厂商,就是错误押宝,开发154纳米的光源,而阿斯麦,用了浸润式光刻机,给镜头加水,改变折射率,直接让光源降低到了134纳米。

浸润式光刻机在多重曝光之后,最低可以做到10纳米,再向下,就是极紫外的euv光刻机了。

所以,只要arf这个赛道不出错,以后咱们迅速过渡到浸入式光刻机,那就能用到新千年之后了!

“嗯,咱们坚定地走自己的技术路线就行!”秦富点头。

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